特許
J-GLOBAL ID:200903034480990703
ドライエッチング装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
京本 直樹 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-062914
公開番号(公開出願番号):特開平5-267224
出願日: 1992年03月19日
公開日(公表日): 1993年10月15日
要約:
【要約】【目的】真空室4の圧力を測定する圧力計の劣化をエッチングする前に検知し、エッチング異常を起さない。【構成】真空室4に少くとも2つの圧力計8及び9を取付け、一つの圧力計8は圧力値を設定圧力と比較し、圧力調整器5を調節する圧力計として使用し、他の圧力計9は圧力計8の圧力値のと比較して圧力計のいずれかが劣化しているか否かを監視する圧力計として使用し、この圧力計の劣化をいち早く発見し、エッチング異常を起さないようにしている。
請求項(抜粋):
半導体基板を収納する真空室と、この真空室を真空排気する真空ポンプと、反応性ガスを前記真空室に導入する流量を制御するガス流量制御器と、前記真空室の圧力を測定する少くとも2つの圧力計と、前記真空室から前記反応性ガスを排気する流量を調節する圧力調整器とを備え、前記2つの圧力計の1つを前記圧力調整器を制御するために使用し、残りの圧力計を前記圧力計の監視用に使用することを特徴とするドライエッチング装置。
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特開昭62-169416
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特開昭60-091642
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特開昭61-220332
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