特許
J-GLOBAL ID：200903034488111733
アイドル回転数制御装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 忠彦 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-017054
公開番号（公開出願番号）：特開平5-209564
出願日： 1992年01月31日
公開日（公表日）： 1993年08月20日
要約：
【要約】【目的】本発明はスロットルバルブをバイパスするバイパス通路と、バイパス通路の通過面積を変化させるアイドル回転数制御弁(ISCV)とを有したアイドル回転数制御装置に関し、上記ISCVにおける空気振動がバイパス通路に共鳴することによる異音の発生を容易かつ確実に防止することを目的とする。【構成】ISCV23の弁体28とスロットルバルブ22の下流側の吸気通路21aに至るまでの出口側バイパス通路24bのうち、断面形状が同一円形状で連続する直管部24dに、直管部24dの通過面積を段差状に変化させる部材としてオリフィス40を設ける。【効果】オリフィス40は弁体28の下流側で発生する空気振動を加振源とする振動の振動波形を強制的に乱し、共鳴を抑制する。従って、出口側バイパス通路24bの形状を詳細に調整することなく異音を容易に防止することができる。
請求項（抜粋）：
内燃機関の吸気通路内に設けられたスロットルバルブをバイパスするバイパス通路と、前記バイパス通路の通過面積を変化させるロータリソレノイドタイプのアイドル回転数制御弁とを有し、前記バイパス通路の通過面積を変化させることにより前記内燃機関のアイドル回転数を制御するアイドル回転数制御装置において、前記アイドル回転数制御弁の弁体から前記スロットルバルブの下流側の前記吸気通路に至るまでの前記バイパス通路のうち、断面形状が同一円形状で連続する直管部に、該直管部の通過面積を段差状に変える通過面積変化部を設けたことを特徴とするアイドル回転数制御装置。
IPC (2件)：
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