特許
J-GLOBAL ID：200903034488930831
露光パターンの分割方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田辺 恵基
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-201032
公開番号（公開出願番号）：特開平7-037801
出願日： 1993年07月21日
公開日（公表日）： 1995年02月07日
要約：
【要約】【目的】露光基板P上に露光転写しようとする露光パターンPAを分割してなる複数種類の単位パターンPMのそれぞれを単数又は複数のマスクM上に形成し、マスクMに形成された単位パターンPMのそれぞれを投影レンズ4を介してステージ5上に載置された露光基板Pに対して互いに繋ぎ露光することにより、露光基板P上に単位パターンPMの集合でなる露光パターンPAを形成する露光装置1の露光パターンPAの分割方法において、一段と簡易な方法によつて適切な分割方法を得る。【構成】露光基板Pの大きさとマスクMの大きさとステージ5の最大移動量とによつて露光パターンPAの分割数及び分割パターンを決定するようにしたことにより、適切な分割方法を一段と簡単に決定することができる。
請求項（抜粋）：
露光基板上に露光転写しようとする露光パターンを分割してなる複数種類の単位パターンのそれぞれを単数又は複数のマスク上に形成し、上記マスクに形成された上記単位パターンのそれぞれを投影レンズを介してステージ上に載置された上記露光基板に対して互いに繋ぎ露光することにより、上記露光基板上に上記単位パターンの集合でなる上記露光パターンを形成する露光装置の上記露光パターンの分割方法において、上記露光基板の大きさを表すパラメータと上記マスクの大きさを表すパラメータと露光光の光軸に対して垂直な面内での上記ステージの最大移動量を表すパラメータとに基づいて上記露光パターンを分割するようにしたことを特徴とする露光パターンの分割方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 C
, H01L 21/30 502 P
