特許

J-GLOBAL ID：200903034497468458

ポリオキシアルキレン変性ポリオルガノシルセスキオキサン樹脂およびその製造方法

発明者： 竹澤 好昭
出願人/特許権者： 東芝シリコーン株式会社
代理人 (1件)： 古谷 馨 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-280387
公開番号（公開出願番号）：特開平11-116814
出願日： 1997年10月14日
公開日（公表日）： 1999年04月27日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 エマルジョンとした時も優れた保存安定性を有し、各種基材に対してハジキのない良好な塗布性を示すポリオルガノシルセスキオキサン樹脂を提供する。【解決手段】 下記一般式で表される、1分子中にアミノ基、ポリオキシアルキレン基およびアルコキシ基を有するポリオキシアルキレン変性ポリオルガノシルセスキオキサン樹脂。(式中、R1は、ハロゲン原子で置換されていてもよい1価の炭化水素残基、R2は、炭素数1〜4のアルキル基、R3は、炭素数1〜4のアルキル基および/またはアルコキシ基、X は、-(CH2)3-または-(CH2)3NH(CH2)2-基、R4は、炭素数2〜4のアルキレン基、q は、5≦q ≦30の数、Y は、アルキルエーテル、アルキルフェニルエーテル、メタアクリロイルおよび/またはアクリロイル基、m は1〜50の数、n は1〜50の数、p は15〜500 の数を示す。)

請求項（抜粋）：

下記一般式で表される、1分子中にアミノ基、ポリオキシアルキレン基およびアルコキシ基を有するポリオキシアルキレン変性ポリオルガノシルセスキオキサン樹脂。【化1】(式中、R1は、ハロゲン原子で置換されていてもよい1価の炭化水素残基、R2は、炭素数1〜4のアルキル基、R3は、炭素数1〜4のアルキル基および/またはアルコキシ基、X は、-(CH2)3-または-(CH2)3NH(CH2)2-基、R4は、炭素数2〜4のアルキレン基、q は、5≦q ≦30の数、Y は、アルキルエーテル、アルキルフェニルエーテル、メタアクリロイルおよび/またはアクリロイル基、m は1〜50の数、n は1〜50の数、p は15〜500 の数を示す。)

IPC (4件)：

C08L 83/12 ,  C08G 77/46 ,  C09D 5/00 ,  C09D183/12

FI (4件)：

C08L 83/12 ,  C08G 77/46 ,  C09D 5/00 A ,  C09D183/12