特許
J-GLOBAL ID：200903034500538659
電子線照射方法及びその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 昌久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-064407
公開番号（公開出願番号）：特開平11-248895
出願日： 1998年02月27日
公開日（公表日）： 1999年09月17日
要約：
【要約】【課題】 食品や飲料容器等の被照射物に電子線を所定方向に繰り返しビーム走査しながら照射し殺菌等の所期の目的を達成するものにおいて、前記被照射物の肉厚が異なるものにおいても、照射方向各部位の電子線吸収量の均一化を可能とし得る電子線照射方法及びその装置を提供することを目的とする。【解決手段】 食品や飲料容器等の立体形状の被照射物に、電子線を繰り返し二次元若しくは三次元方向にビーム走査しながら照射し殺菌等の所期の目的を達成するものにおいて、前記ビーム走査位置より前記被照射物に照射位置の間の所定位置に電子線偏向用の磁石体を配置し、該磁石体により電子線を偏向する方向に、該走査電子線に磁力線を加え、前記被照射物に照射される電子線の一部が前記磁力線により偏向された電子線である。
請求項（抜粋）：
食品や飲料容器等の立体形状の被照射物に、電子線を繰り返し二次元若しくは三次元方向にビーム走査しながら照射し殺菌等の所期の目的を達成する電子線照射方法において、前記ビーム走査後の電子線を偏向する方向に、該走査電子線に磁力線を加え、前記被照射物に照射される電子線の一部が前記磁力線により偏向された電子線であることを特徴とする電子線照射方法。
IPC (5件)：
G21K 5/04
, A23L 3/26
, A61L 2/08
, B65B 55/08
, H01J 37/30
G21K 5/04 E
, A23L 3/26
, A61L 2/08
, B65B 55/08 B
, H01J 37/30 A
