特許
J-GLOBAL ID：200903034501496321
洗浄システム及び洗浄方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩原 康司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-113405
公開番号（公開出願番号）：特開平10-289894
出願日： 1997年04月15日
公開日（公表日）： 1998年10月27日
要約：
【要約】【課題】 ワンバス方式の洗浄システムにおいて,洗浄槽へ供給された薬液を直ぐに所定の処理温度に適合できる手段を提供する【解決手段】 薬液回収タンク53とウェハWを収納自在な洗浄槽22を備えたワンバス方式の洗浄システム1において,薬液回収タンク53内に回収された薬液を洗浄槽22内に供給した際に薬液の温度が処理温度Tとなるように,薬液の温度を調整するヒータ59,68を設けたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
被処理体を収納自在な洗浄槽と,所定の処理温度Tに温度調整された薬液を該洗浄槽に供給する薬液供給手段と,洗浄槽に純水を供給する純水供給手段と,少なくとも該純水供給手段によって洗浄槽内に純水が供給されている間は洗浄槽内から排出された薬液を回収しておく薬液回収タンクとを備えた洗浄システムにおいて,前記薬液回収タンク内の薬液を洗浄槽内に供給した際に薬液の温度が処理温度Tとなるように,薬液の温度を調整する温度調整手段を設けたことを特徴とする洗浄システム。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
H01L 21/304 341 T
, H01L 21/304 341 S
