レジストパターン形成装置及び基板検査装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大胡典夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-183432
公開番号（公開出願番号）：特開2001-015408
出願日： 1999年06月29日
公開日（公表日）： 2001年01月19日
要約：

【要約】【課題】レジストパターン形成のやり直し作業を改善し、効率よくレジストパターン形成して製造工期を短縮する。【解決手段】本発明は、基板にレジストパターン形成を行うレジストパターン形成装置において、さらに、基板の検査結果が入力される検査結果入力インターフェイス14と、前記検査結果入力インターフェイス18に入力された検査結果を受けそれに基いて前記基板群から基板を選択しレジスト剥離ユニットに搬送する搬送機構11と、レジスト層を剥離するレジスト剥離ユニット3とを有するレジストパターン形成装置である。

請求項（抜粋）：

基板群にレジスト塗布・露光及び現像を行いレジストパターンを形成するレジスト塗布・露光・現像ユニットと、前記基板のレジストパターンを検査した結果が入力される検査結果入力インターフェイスと、前記検査結果入力インターフェイスに入力された検査結果に基いて前記レジストパターンが形成された基板群から基板を選択しレジスト剥離ユニットに搬送する搬送機構と、前記基板上に形成されたレジスト層を剥離するレジスト剥離ユニットとを有することを特徴とするレジストパターン形成装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/26 , H01L 21/66

FI (5件)：

H01L 21/30 514 E , G03F 7/26 , H01L 21/66 J , H01L 21/30 502 V , H01L 21/30 572 Z

Fターム (21件)：

2H096AA25 , 2H096AA27 , 2H096CA12 , 2H096EA30 , 2H096GA29 , 2H096LA01 , 2H096LA16 , 4M106AA01 , 4M106BA02 , 4M106BA10 , 4M106CA39 , 4M106DB18 , 4M106DB30 , 4M106DH01 , 4M106DJ38 , 5F046AA17 , 5F046AA18 , 5F046CD01 , 5F046CD05 , 5F046CD06 , 5F046MA01

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