特許

J-GLOBAL ID：200903034512792801

放射線感受性コポリマー、そのフォトレジスト組成物およびその深UV二層システム

発明者： パトリック・フォスター ,  ジョン・ジョウゼフ・ビアフォーア ,  グレゴリー・ドメニク・スパツィアーノ
出願人/特許権者： アーチ・スペシャルティ・ケミカルズ・インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 高木 千嘉 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-525472
公開番号（公開出願番号）：特表2003-518524
出願日： 2000年08月11日
公開日（公表日）： 2003年06月10日
要約：

【要約】【課題】 深UVフォトリトグラフィーで使用するための二層システム中のトップ層で使用するための放射線感受性樹脂の提供。【解決手段】 この放射線感受性樹脂は、式【化1】(式中、nは1〜5の整数であり、R1はメチルまたはトリメチルシロキシであり、R2は第3-ブチル基であり、R3、R4およびR5はそれぞれ独立して水素またはメチル基である)の構造単位を有するコポリマーを含むことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

式 【化1】(式中、nは1〜5の整数であり、R1はメチルまたはトリメチルシロキシであり、R2は第3-ブチル基であり、R3、R4およびR5はそれぞれ独立して水素またはメチル基である)の構造単位を含む放射線感受性コポリマー。

IPC (6件)：

C08F222/06 ,  C08F220/12 ,  C08F230/08 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

C08F222/06 ,  C08F220/12 ,  C08F230/08 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (21件)：

2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025DA40 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AJ02T ,  4J100AK32P ,  4J100AL03R ,  4J100AL03S ,  4J100AP16Q ,  4J100BA72Q ,  4J100BA80Q ,  4J100CA03 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA39 ,  4J100JA38