特許
J-GLOBAL ID：200903034526984118
磁気ディスク及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
篠原 泰司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-344783
公開番号（公開出願番号）：特開平5-182169
出願日： 1991年12月26日
公開日（公表日）： 1993年07月23日
要約：
【要約】【目的】 記憶容量の大容量化を達成するのに十分な静磁気特性を備えた磁気ディスク及びその製造方法を提供する。【構成】 非磁性基板上に、実質的にCrから成る第一層とCoを主成分とする磁気記録媒体である第二層とが積層されて成り、この第一層を形成する結晶の<100>面が上記基板に対して実質的に平行に配向されていることを特徴とする磁気ディスク。かかる磁気ディスクの上記第一層の成膜は、基板と成膜装置のチャンバーとの間に、基板の電位が成膜装置のチャンバーの電位に対し100乃至300Vの負となるように電位差を与えて行う。
請求項（抜粋）：
非磁性基板上に、実質的にCrから成る第一層とCoを主成分とする磁気記録媒体である第二層とが積層されて成る磁気ディスクにおいて、該第一層を形成する結晶の<100>面が上記基板に対して実質的に平行に配向されていることを特徴とする磁気ディスク。
IPC (5件)：
G11B 5/66
, C23C 14/14
, C23C 14/34
, G11B 5/82
, G11B 5/85
