特許

J-GLOBAL ID：200903034535440155

表面処理粉体の製造方法

発明者： 植田 俊吉 ,  大磯 由香 ,  浅田 幸伸
出願人/特許権者： テイカ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-288582
公開番号（公開出願番号）：特開平7-108156
出願日： 1993年10月13日
公開日（公表日）： 1995年04月25日
要約：

【要約】【目的】 強い分散をかけて凝集粒子がこわれるようなことがあっても未処理の面があらわれない、均一で十分に表面処理された粉体を得ることのできる表面処理方法を提供する。【構成】 基材粉体に表面処理を行う際に、粉砕を行う工程を有する分散・表面処理装置であるサンドグラインダーミルを用いることにより、後の再分散工程によりたとえ凝集粒子がこわれても、未処理面があらわれることのない表面処理粉体を製造する。

請求項（抜粋）：

粉体を有機化合物又は有機金属化合物で表面被覆処理する際、処理装置としてサンドグラインダーミルを用い、基材粉体100重量部に対し、表面処理剤0.1〜50重量部、溶媒50〜5000重量部の範囲で処理することを特徴とする表面処理粉体の製造方法。

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開昭61-200845
  
• 撥水撥油性顔料およびそれを含有した粉体化粧料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-023671   出願人：テイカ株式会社, ポーラ化成工業株式会社
• 特開昭57-067681
  
• 固定化紫外線吸収剤およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-243610   出願人：株式会社資生堂

審査官引用 (2件)

• 特開昭61-200845
  
• 撥水撥油性顔料およびそれを含有した粉体化粧料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-023671   出願人：テイカ株式会社, ポーラ化成工業株式会社