特許
J-GLOBAL ID:200903034538197758
化学蒸着システム及び方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
中村 稔 (外9名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-613851
公開番号(公開出願番号):特表2002-543280
出願日: 2000年03月03日
公開日(公表日): 2002年12月17日
要約:
【要約】基板(110)を処理する化学蒸着(CVD)システムを提供する。システム(100)は、マッフル(115)、基板(110)を処理するために化学気化物質を導入するインジェクター組立体(13)を有するチャンバ(120)、及びマッフル及びチャンバを通して基板を移動するベルト(105) を含む。ベルト(105)は、その上への堆積の形成を低減するために耐酸化コーティング(175)を有する。耐酸化コーティング(175)は、クロムコーティング合金で製作されたベルト上に酸化クロムの形成を防止するための特に有用である。一実施例では、耐酸化コーティング(175)は、実質的に遷移金属が存在しない密着酸化物層(185)を備えている。耐酸化コーティング(175)は、酸化アルミニウムを備えているのが好ましい。コーティング(175)は、ニッケルアルミニウム化合物層(180)全体にわたり密着された酸化アルミニウム層(185)を備えているのが更に好ましい。
請求項(抜粋):
基板を処理する化学蒸着システムにおいて、 (a)前記基板を処理するため、化学蒸着チャンバに化学気化物質を導入するためのインジェクター組立体を有する少なくとも1つの化学蒸着チャンバ、及び (b)前記化学蒸着チャンバを通して基板を移動させるベルトを備え、 前記ベルトは耐酸化コーティングを有し、前記ベルトおよび隣接するシステム上の堆積の形成と、微粒子の発生が減少したことを特徴とする処理システム。
IPC (6件):
C23C 16/44
, B01J 19/00
, C23C 10/48
, C23C 28/00
, C23C 30/00
, B05D 3/10
FI (7件):
C23C 16/44 F
, B01J 19/00 G
, B01J 19/00 L
, C23C 10/48
, C23C 28/00 B
, C23C 30/00 A
, B05D 3/10 E
Fターム (32件):
4D075AC76
, 4D075BB85Y
, 4D075BB95Y
, 4D075CA47
, 4D075DA06
, 4D075DC22
, 4D075EB01
, 4G075AA24
, 4G075AA30
, 4G075BC04
, 4G075BD14
, 4G075CA02
, 4G075EB01
, 4G075ED11
, 4G075FB02
, 4G075FB04
, 4G075FC09
, 4K030CA04
, 4K030CA12
, 4K030GA14
, 4K030JA09
, 4K030KA47
, 4K044AA06
, 4K044AB02
, 4K044BA06
, 4K044BA10
, 4K044BA13
, 4K044BB03
, 4K044BC06
, 4K044CA12
, 4K044CA53
, 4K044CA62
引用特許:
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