特許
J-GLOBAL ID：200903034540859849
パルスレーザ照射装置および方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
遠山 勉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-078370
公開番号（公開出願番号）：特開平6-007974
出願日： 1993年04月05日
公開日（公表日）： 1994年01月18日
要約：
【要約】【目的】 パルスレーザ照射で溶接を行う際に、ブローホール等の溶接欠陥のない良好な溶接外観を持ち、スパッタ等の飛散が少なく、溶接強度の十分な溶接ビードを得る【構成】 パルスレーザの各周期におけるパルス波形の中に2つの矩形波を生成し、1段目の矩形波のピークパワー値P1及びそのパルス幅t1と、2段目の矩形波のピークパワー値P2及びそのパルス幅t2との関係を所定の範囲に制御する。
請求項（抜粋）：
被覆した金属材料にパルスレーザを照射するパルスレーザ照射装置であって、レーザ媒質と、このレーザ媒質を外部から励起する励起源とを有するパルスレーザ発振器と、パルスレーザ発振器を制御する発振制御部とを含み、前記発振制御部は、前記パルスレーザ発振器で発振するパルスレーザの各周期におけるパルス波形の中に2つの矩形波を生成し、1段目の矩形波のピークパワー値P1(kW)及びそのパルス幅t1(msec)と、2段目の矩形波のピークパワー値P2(kW)及びそのパルス幅t2(msec)との関係を所定の範囲に制御するパルスレーザ照射装置。
IPC (2件)：
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