特許

J-GLOBAL ID：200903034564967227

フオトマスク保護用フイルム

発明者： 高佐 健治 ,  長谷川 卓也
出願人/特許権者： 旭化成工業株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 一雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-202014
公開番号（公開出願番号）：特開平5-045865
出願日： 1991年08月12日
公開日（公表日）： 1993年02月26日
要約：

【要約】【目的】 露光時の散乱光線による露光かぶりが少なく線幅変化量の少ないことによって原画に忠実な像の形成を行うことが出来るフォトマスク保護用フィルムを提供する。【構成】 2軸延伸ポリオキシメチレンフィルムであって、全曇り度が10%以下、且つ全曇り度に対する内部曇り度の割合が50%以下であるフォトマスク保護用フィルム。

請求項（抜粋）：

2軸延伸ポリオキシメチレンフィルムであって、全曇り度が10%以下、且つ全曇り度に対する内部曇り度の割合が50%以下であるフォトマスク保護用フィルム。

IPC (8件)：

G03F 1/14 ,  B29C 55/12 ,  C08J 5/18 CFJ ,  C08L 59/04 LMP ,  B29K 59:00 ,  B29K105:32 ,  B29L 7:00 ,  C08L 59:00