特許
J-GLOBAL ID：200903034566552750
フォトレジスト剥離液
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-288607
公開番号（公開出願番号）：特開平11-125917
出願日： 1997年10月21日
公開日（公表日）： 1999年05月11日
要約：
【要約】【課題】 従来の技術の課題に照らしてより優れたレジスト剥離液を提供することにある。特にレジストの除去性に加え、エッチングポリマーの除去性と基板の腐食防止性とを両立させ、かつ保存中や使用中に性能変化の少ない安定な剥離液を提供することにある。【解決手段】 (a)有機アミン、(b)水、(c)特定のヒドロキシ化合物、及び(d)含水可能な有機溶剤をを含むことを特徴とするフォトレジスト剥離液。
請求項（抜粋）：
(a)有機アミン、(b)水、(c)下記一般式Iで示されるヒドロキシ化合物、及び(d)含水可能な有機溶剤をを含むことを特徴とするフォトレジスト剥離液。【化1】(一般式I中、R1 は水酸基と隣接したアミノ基、カルボキシル基、アミド基、アシル基を表し、R2 は水素原子、水酸基、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、スルホン酸基、アミノ基、カルボキシル基、アミド基、アシル基、カルボン酸のアルキルエステル(炭素数=1〜3)、スルホン酸のアルキルエステル(炭素数=1〜3)を表し、R2 はさらなる置換基を有することができる。Zは、置換されていてもよい5員もしくは6員の複素環又は芳香環を形成するのに必要な残基を表す。)
IPC (2件)：
FI (2件)：
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