特許
J-GLOBAL ID：200903034567572509
パターンの位置合わせ方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-124061
公開番号（公開出願番号）：特開平10-318713
出願日： 1997年05月14日
公開日（公表日）： 1998年12月04日
要約：
【要約】【課題】 位置決めマークが配設されていないパターンの位置合わせを行う。【解決手段】 被測定パターンの画像からマスタパターンの基準点P0と対応する位置の所定の大きさのウインドウWを取り出す。ウインドウW内のX座標ごとの画素数を示すヒストグラムHX を作成すると共にY座標ごとの画素数を示すヒストグラムHY を作成する。ヒストグラムHX ,HY が極大値を示す点を基準点P0と対応する被測定パターンの基準点の候補とする。候補点を含むランドと接続されたパターンの向きが予め指定された方向で、かつ基準点P0に最も近い候補点を被測定パターンの基準点とする。そして、マスタパターンの基準点P0と被測定パターンの基準点の位置を合わせる。
請求項（抜粋）：
基準となるマスタパターンとカメラで撮像した被測定パターンを比較することにより被測定パターンを検査するパターン検査方法において、ランドの中心を位置合わせ用の基準点としてマスタパターンと被測定パターンの位置合わせを行う位置合わせ方法であって、被測定パターンの画像からマスタパターンの基準点と対応する位置の所定の大きさの分割領域を取り出し、この分割領域内のX座標ごとの画素数を示す第1のヒストグラムを作成すると共に、Y座標ごとの画素数を示す第2のヒストグラムを作成し、第1、第2のヒストグラムが共に極大値を示す点をマスタパターンの基準点と対応する被測定パターンの基準点の候補とし、候補点を含むランドと接続されたパターンの向きが予め指定された方向で、かつマスタパターンの基準点に最も近い候補点を被測定パターンの基準点とし、マスタパターンの基準点と被測定パターンの基準点の位置を合わせることによりマスタパターンと被測定パターンの位置合わせを行うことを特徴とするパターンの位置合わせ方法。
IPC (4件)：
G01B 11/00
, G01B 11/24
, G06T 7/00
, G01N 21/13
G01B 11/00 H
, G01B 11/24 F
, G01N 21/13
, G06F 15/62 405 C
, G06F 15/70 330 P
