特許
J-GLOBAL ID:200903034568070892
処理液の濃度制御方法およびその装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
花輪 義男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-396589
公開番号(公開出願番号):特開2002-194572
出願日: 2000年12月27日
公開日(公表日): 2002年07月10日
要約:
【要約】【課題】 アルミニウムのエッチング液(リン酸、硝酸、酢酸、水からなる混酸)中の硝酸の濃度を正確に測定する。【解決手段】 処理液(エッチング液)32を純水で希釈してなる希釈処理液を石英セル57内に供給する。次に、空気用シリンジ55の排出駆動により、空気用シリンジ55内から空気を石英セル57内に供給し、石英セル57内の希釈処理液をすべて配管58内に仮排出する。次に、空気用シリンジ55の吸引駆動により、石英セル57内の空気をすべて排出し、配管58内に仮排出された希釈処理液を石英セル57内に戻す。これにより、石英セル57の内壁面への気泡の付着を防止する。そして、この状態で、石英セル57内の希釈処理液中の硝酸の濃度に応じた透過光量を検出し、この検出値に基づいて、処理液タンク41内の処理液42中の硝酸の濃度を算出する。
請求項(抜粋):
処理液タンク内の混合液からなる処理液またはこの処理液を純水で希釈してなる処理液を測定用セル内に供給し、前記測定用セル内にその一方の側から気体を供給して、前記測定用セル内の処理液をすべて前記測定用セルの他方の側から仮排出し、しかる後、前記測定用セル内の気体をすべて排出するとともに、仮排出された処理液を前記測定用セル内に戻し、この戻された処理液の濃度を直接的または間接的に測定し、この濃度が設定濃度よりも低いとき前記処理液タンク内に所定の液を補給することを特徴とする処理液の濃度制御方法。
IPC (6件):
C23F 1/08 101
, C23F 1/20
, G01N 1/00 101
, G01N 21/03
, G01N 21/15
, G01N 21/59
FI (6件):
C23F 1/08 101
, C23F 1/20
, G01N 1/00 101 G
, G01N 21/03 Z
, G01N 21/15
, G01N 21/59 Z
Fターム (52件):
2G052AA00
, 2G052AB07
, 2G052AC16
, 2G052AD07
, 2G052AD46
, 2G052BA02
, 2G052BA12
, 2G052BA14
, 2G052CA04
, 2G052CA14
, 2G052CA19
, 2G052CA29
, 2G052DA13
, 2G052DA22
, 2G052FC15
, 2G052FD01
, 2G052GA12
, 2G052JA09
, 2G052JA11
, 2G057AA01
, 2G057AB03
, 2G057AB06
, 2G057AC01
, 2G057AD17
, 2G057BA01
, 2G057BB04
, 2G057JA03
, 2G059AA01
, 2G059BB04
, 2G059DD02
, 2G059DD04
, 2G059EE01
, 2G059FF08
, 2G059GG00
, 2G059HH03
, 2G059HH06
, 2G059JJ02
, 2G059KK01
, 2G059MM05
, 2G059MM10
, 4K057WA10
, 4K057WA19
, 4K057WA20
, 4K057WB05
, 4K057WE02
, 4K057WE04
, 4K057WE12
, 4K057WG03
, 4K057WL10
, 4K057WM19
, 4K057WM20
, 4K057WN01
引用特許:
出願人引用 (8件)
-
特開平4-324343
-
エッチング廃液処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-245462
出願人:鶴見曹達株式会社
-
特開平4-066681
-
特開平4-157185
-
サンプリング装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-346781
出願人:東洋エンジニアリング株式会社
-
特開昭56-112633
-
特開昭53-103942
-
特公平4-007943
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審査官引用 (8件)
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特開平4-324343
-
エッチング廃液処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-245462
出願人:鶴見曹達株式会社
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特開平4-066681
-
特開平4-157185
-
サンプリング装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-346781
出願人:東洋エンジニアリング株式会社
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特開昭56-112633
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特開昭53-103942
-
特公平4-007943
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