特許
J-GLOBAL ID:200903034590237407
アクティブマトリクス基板
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
原 謙三 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-364262
公開番号(公開出願番号):特開2003-248240
出願日: 1996年08月02日
公開日(公表日): 2003年09月05日
要約:
【要約】【課題】 有機絶縁膜と、該有機絶縁膜と接触する透明導電膜や無機絶縁膜との密着性に優れ、信頼性の高い表示素子を得ることができる表示素子用基板およびその製造方法並びにその製造装置を提供する。【解決手段】 画素部における断面構造が、絶縁性基板11/ゲート絶縁膜としての無機絶縁膜13/層間絶縁膜としての有機絶縁膜19/画素電極としての透明導電膜17・17’となっているアクティブマトリクス基板において、上記有機絶縁膜19を形成する樹脂に、シラザン、クロロシランからなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物をブレンドし、かつ上記有機絶縁膜19を1.5μm以上の膜厚で形成する。
請求項(抜粋):
画素部における断面構造が、絶縁性基板/ゲート絶縁膜としての無機絶縁膜/層間絶縁膜としての有機絶縁膜/画素電極としての透明導電膜となっているアクティブマトリクス基板において、上記有機絶縁膜を形成する樹脂に、シラザン、クロロシランからなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物がブレンドされており、かつ上記有機絶縁膜が1.5μm以上の膜厚で形成されていることを特徴とするアクティブマトリクス基板。
IPC (5件):
G02F 1/1368
, G09F 9/30 339
, G09F 9/30 348
, H01L 21/312
, H01L 29/786
FI (5件):
G02F 1/1368
, G09F 9/30 339 Z
, G09F 9/30 348 A
, H01L 21/312 A
, H01L 29/78 619 A
Fターム (51件):
2H092GA12
, 2H092GA17
, 2H092GA29
, 2H092HA02
, 2H092HA04
, 2H092JA24
, 2H092JA34
, 2H092JA46
, 2H092JB01
, 2H092JB56
, 2H092KA12
, 2H092KB25
, 2H092MA01
, 2H092MA12
, 2H092NA18
, 2H092NA25
, 5C094AA31
, 5C094BA03
, 5C094BA43
, 5C094DA15
, 5C094EA04
, 5C094EA05
, 5C094FB01
, 5C094FB15
, 5C094HA08
, 5C094JA08
, 5F058AA05
, 5F058AA08
, 5F058AD09
, 5F058AD11
, 5F058AG10
, 5F058AH02
, 5F110AA16
, 5F110AA26
, 5F110BB01
, 5F110CC05
, 5F110CC07
, 5F110DD02
, 5F110FF03
, 5F110HK02
, 5F110HK07
, 5F110HK09
, 5F110HK21
, 5F110HL07
, 5F110HL23
, 5F110NN04
, 5F110NN12
, 5F110NN27
, 5F110NN36
, 5F110NN39
, 5F110NN73
引用特許:
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