特許

J-GLOBAL ID：200903034593338425

冷却水系の水処理方法

発明者： 角田 和彦 ,  飯村 晶 ,  大石 正典
出願人/特許権者： 旭硝子エンジニアリング株式会社 ,  栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-356297
公開番号（公開出願番号）：特開2003-154366
出願日： 2001年11月21日
公開日（公表日）： 2003年05月27日
要約：

【要約】【課題】 冷却水を電解処理することにより生成させた塩素系酸化剤を含む電解処理水を冷却水系に供給することにより、系内のスライムの発生を防止する冷却水系の水処理方法において、電極素材を劣化させることなく、電極へのスケール付着を防止して、塩素系酸化剤の生成効率を長時間安定に維持する。【解決手段】 冷却水中に浸漬した電極3A,3Bに通電して、該水中に含まれる塩化物イオンから塩素系酸化剤を発生させた電解処理水を冷却水系に含有させる冷却水系の水処理方法において、電極3A,3Bの下方からエアノズル4よりエアを供給することにより、電極3A,3Bへのスケール付着を防止する。

請求項（抜粋）：

冷却水中に浸漬した電極に通電して、該水中に含まれる塩化物イオンから塩素系酸化剤を生成させた電解処理水を冷却水系の冷却水に含有させる冷却水系の水処理方法において、該電極の表面に気体を供給することを特徴とする冷却水系の水処理方法。

IPC (10件)：

C02F 1/46 ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/50 560 ,  C02F 1/50 ZAB ,  C02F 1/76 ,  F28F 19/01

FI (10件)：

C02F 1/46 Z ,  C02F 1/50 510 C ,  C02F 1/50 520 K ,  C02F 1/50 531 M ,  C02F 1/50 540 B ,  C02F 1/50 550 D ,  C02F 1/50 560 F ,  C02F 1/50 ZAB ,  C02F 1/76 A ,  F28F 19/00 501 Z

Fターム (15件)：

4D050AA08 ,  4D050AB06 ,  4D050BB06 ,  4D050BD04 ,  4D050CA10 ,  4D061DA05 ,  4D061DB10 ,  4D061EA02 ,  4D061EB05 ,  4D061EB17 ,  4D061EB19 ,  4D061EB27 ,  4D061EB30 ,  4D061EB31 ,  4D061ED06