特許

J-GLOBAL ID：200903034593799805

ガス供給集積ユニット及びそのシステム

発明者： 板藤 寛
出願人/特許権者： シーケーディ株式会社
代理人 (1件)： 富澤 孝 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-058148
公開番号（公開出願番号）：特開平8-227836
出願日： 1995年02月21日
公開日（公表日）： 1996年09月03日
要約：

【要約】【目的】 マスフローコントローラ、手動弁、レギュレータ、圧力計、フィルタを含むガス供給装置を複数台有するガス供給ユニットであって、狭いフロアスペースで配設可能に集積されたガス供給集積ユニットを提供すること。【構成】 腐食性ガスFの搬送管路上にあって腐食性ガスFの流れを遮断する入口開閉弁14及び出口開閉弁12と、入口開閉弁14及び出口開閉弁12の中間にあって腐食性ガスFの流量を制御するマスフローコントローラ11とが一体的に構成されたマスフローユニットを有するガス供給集積ユニットであって、腐食性ガスFの供給または遮断を手動で行うための手動弁18と、腐食性ガスFのガス圧を調整するレギュレータ17と、腐食性ガスFの圧力をモニターするための圧力計16と、腐食性ガスFの混入不純物を除去するためのフィルタ15とが、マスフローユニットと並列に配設されている。

請求項（抜粋）：

供給ガスの搬送管路上にあって該供給ガスの流れを遮断する第一開閉弁及び第二開閉弁と、該第一及び第二開閉弁の中間にあって該供給ガスの流量を制御するマスフローコントローラとが一体的に構成されたマスフローユニットを有するガス供給集積ユニットにおいて、前記供給ガスの供給または遮断を手動で行うための手動弁と、前記供給ガスのガス圧を調整するレギュレータと、前記供給ガスの圧力をモニターするための圧力計と、前記供給ガスの混入不純物を除去するためのフィルタとが、前記マスフローユニットと並列に配設されることを特徴とするガス供給集積ユニット。

IPC (4件)：

H01L 21/02 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/22 501

FI (4件)：

H01L 21/02 Z ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 501 S ,  H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (1件)

• ガス供給装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-045929   出願人：株式会社東芝, シーケーディ株式会社