特許
J-GLOBAL ID：200903034601801547
フォトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-009007
公開番号（公開出願番号）：特開平7-219209
出願日： 1994年01月31日
公開日（公表日）： 1995年08月18日
要約：
【要約】【目的】発塵による製品の歩留の低下や露光装置の複雑化による管理工数の増大を防止し安価で信頼性の高い半導体装置を得る。【構成】フォトマスク基板12上の製品チップパターン11の領域外にウェーハまたは製品チップのそれぞれを識別する文字,数字,記号にて構成される認識文字パターン13を設け、フォトマスク16を形成する。このフォトマスク16を用いて縮小投影露光装置のフォトマスク・ブラインドにより面積と位置を限定して識別用の所定の認識パターンをウェーハまたは製品チップのそれぞれに転写し識別を可能にする。
請求項（抜粋）：
光を出す光源と、この光源から出た光の照射する位置を選択し照射面積を変えるフォトマスク・ブラインドと、前記照射面積を縮小投影する縮小投影レンズとを備えた露光装置を用いて半導体ウェーハ上に所定の回路パターンを転写し半導体チップを形成するフォトマスクにおいて、前記回路パターンが形成された領域外に読取り可能なパターンを設け、前記フォトマスク・ブラインドを用いて前記半導体ウェーハ上の前記回路パターンの領域外に前記半導体ウェーハまたは前記半導体チップのそれぞれを識別する認識パターンを構成し転写することを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 G
, H01L 21/30 502 P
