特許

J-GLOBAL ID：200903034606522786

1,2-ベンゾイソチアゾール-3-オン類の製造方法

発明者： 越山 智樹 ,  北川 幸緒 ,  上岡 千明 ,  三木 茂男
出願人/特許権者： 新日本理化株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-176752
公開番号（公開出願番号）：特開2000-007667
出願日： 1998年06月24日
公開日（公表日）： 2000年01月11日
要約：

【要約】【目的】 一工程で、工業的に有利で、取り扱い上危険性の高い物質を使用することなく、穏和な条件で容易に1,2-ベンゾイソチアゾール-3-オン類を製造する方法を提供する。【構成】 一般式(1)で表される1,2-ベンゾイソチアゾール-3-オン類を製造するに際し、一般式(2)で表されるヒドロキサム酸類を塩基性触媒存在下で閉環反応することを特徴とする。[式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数1〜18のアルコキシ基又はニトロ基を表す。][式中、R1は一般式(1)におけるR1と同じである。]

請求項（抜粋）：

一般式(1)[式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数1〜18のアルコキシ基又はニトロ基を表す。]で表される1,2-ベンゾイソチアゾール-3-オン類を製造するに際し、一般式(2)[式中、R1は一般式(1)におけるR1と同じである。]で表されるヒドロキサム酸類を塩基性触媒存在下で閉環反応することを特徴とする、一般式(1)で表される1,2-ベンゾイソチアゾール-3-オン類の製造方法。

IPC (5件)：

C07D275/04 ,  B01J 23/04 ,  A01N 43/80 102 ,  A61K 31/425 ADZ ,  C07B 61/00 300

FI (5件)：

C07D275/04 ,  B01J 23/04 X ,  A01N 43/80 102 ,  A61K 31/425 ADZ ,  C07B 61/00 300

Fターム (11件)：

4C033AA02 ,  4C033AA06 ,  4C033AA19 ,  4C086AA04 ,  4C086BC80 ,  4C086MA04 ,  4C086ZB35 ,  4H011AA02 ,  4H011AA03 ,  4H039CA42 ,  4H039CH20