特許

J-GLOBAL ID：200903034612348160

塗布膜の乾燥方法及びその装置

発明者： 足助 慎太郎
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 渡邊 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-361040
公開番号（公開出願番号）：特開2003-159558
出願日： 2001年11月27日
公開日（公表日）： 2003年06月03日
要約：

【要約】【課題】 加熱乾燥に伴う膜表面の平坦度の低下を抑制し、膜厚均一性及び成分均一性の良好な塗布膜を得ることができる塗布膜の乾燥方法及び乾燥装置を提供する。【解決手段】 乾燥装置10は、基板20上に塗布された液体材料の塗布膜30を加熱乾燥させる。乾燥時、貫通孔32が設けられた部材を、基板20に対して所定の距離に配置し、塗布膜30の蒸発を抑制する。

請求項（抜粋）：

基板上に塗布された液体材料の塗布膜を加熱乾燥させる乾燥方法であって、貫通孔が設けられた部材を、前記基板に対して所定の距離に配置し、前記塗布膜の蒸発を抑制することを特徴とする塗布膜の乾燥方法。

IPC (6件)：

B05C 9/14 ,  B05D 3/02 ,  F26B 3/20 ,  F26B 5/04 ,  G03F 7/38 501 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

B05C 9/14 ,  B05D 3/02 F ,  F26B 3/20 ,  F26B 5/04 ,  G03F 7/38 501 ,  H01L 21/30 567

Fターム (31件)：

2H096AA25 ,  2H096CA12 ,  2H096DA01 ,  2H096JA02 ,  3L113AA03 ,  3L113AB06 ,  3L113AC08 ,  3L113AC24 ,  3L113AC67 ,  3L113BA34 ,  3L113CA08 ,  3L113CB05 ,  3L113DA11 ,  3L113DA24 ,  4D075BB24Z ,  4D075BB56Z ,  4D075CA48 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DC21 ,  4D075DC24 ,  4D075EA05 ,  4D075EA45 ,  4F042AA02 ,  4F042AA07 ,  4F042DB01 ,  4F042DB17 ,  4F042DB30 ,  4F042DC01 ,  5F046KA10

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 基板の熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-157475   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板の処理装置及び処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-347973   出願人：東京エレクトロン株式会社