特許

J-GLOBAL ID：200903034612566370

ケイ素系難燃組成物

発明者： 西原 一 ,  大谷 郁二
出願人/特許権者： 旭化成株式会社
代理人 (1件)： 加々美 紀雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-251831
公開番号（公開出願番号）：特開2001-072867
出願日： 1999年09月06日
公開日（公表日）： 2001年03月21日
要約：

【要約】【目的】 ケイ素系難燃組成物の提供。【構成】 RSiO1.5(T単位)で示される置換基を含有し、かつ500°C以下にガラス転移温度(Tg)を有するポリオルガノシロキサンと重合体とからなるケイ素系難燃組成物、とりわけT単位が90モル%以上であり、かつRSiO1.0(D単位)を含有しないケイ素系難燃組成物(但し、Rは炭素数1〜20の炭化水素である。)。

請求項（抜粋）：

RSiO1.5(T単位)で示される置換基を含有し、かつ500°C以下にガラス転移温度(Tg)を有するポリオルガノシロキサンと重合体とからなるケイ素系難燃組成物。(但し、Rは炭素数1〜20の炭化水素である。)

IPC (3件)：

C08L 83/04 ,  C08L 69/00 ,  C09K 21/14

FI (3件)：

C08L 83/04 ,  C08L 69/00 ,  C09K 21/14

Fターム (12件)：

4H028AA42 ,  4H028AA49 ,  4H028BA06 ,  4J002AA00X ,  4J002AA00Y ,  4J002BB00X ,  4J002BC02X ,  4J002CG00X ,  4J002CH07X ,  4J002CP03W ,  4J002GN00 ,  4J002GQ00