特許

J-GLOBAL ID：200903034614086154

エチレン除去装置

発明者： 佐藤 仁宣 ,  森 義高 ,  竹内 直和 ,  北田 卓也
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 坂間 暁 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-176708
公開番号（公開出願番号）：特開平8-038040
出願日： 1994年07月28日
公開日（公表日）： 1996年02月13日
要約：

【要約】【目的】 青果等から排出されるエチレンの除去装置において、紫外線放射手段から反応室に入射した紫外線を有効に利用してエチレン除去効率を向上させる。【構成】 ケーシング1内に、環境空気を流過させる通風手段(ファン2)とオゾンを発生及び分解させる紫外線照射手段(紫外線ランプ4)を設けた反応室9を備えたエチレン除去装置において、反応室9の壁内面に酸化チタン(TiO2)等の光触媒10を塗布、コーティングし、紫外線の照射によって光触媒10を酸化と還元の2作用をもつ活性な表面にするようにした。

請求項（抜粋）：

ケーシング内に、環境気体を流過させる通風手段とオゾンを発生及び分解させる紫外線照射手段を設けた反応室を備えてなるエチレン除去装置において、前記反応室の壁内面に光触媒を塗布、コーティングしたことを特徴とするエチレン除去装置。

IPC (2件)：

A23B 7/144 ,  A01F 25/00