特許

J-GLOBAL ID：200903034615004011

微細パターン形成方法及び液晶表示パネル

発明者： 尾田 知茂 ,  藤川 徹也
出願人/特許権者： 富士通ディスプレイテクノロジーズ株式会社
代理人 (1件)： 横山 淳一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-356182
公開番号（公開出願番号）：特開2003-156855
出願日： 2001年11月21日
公開日（公表日）： 2003年05月30日
要約：

【要約】【課題】 先端の位置が揃った線状又は楔状の微細なパターンを形成することが可能であり、櫛歯状のスリットを有する電極が設けられた液晶表示パネルの製造に適用できる微細パターン形成方法を提供する。【解決手段】 基板上にポジ型フォトレジスト膜を形成し、線状又は楔状パターンに対応する遮光部が設けられた露光マスクを介してフォトレジスト膜を露光し、線状又は楔状パターンをフォトレジスト膜に転写する。次に、線状又は楔状パターンの先端部分のみを露光可能な露光マスク33を使用して、フォトレジスト膜を露光する。その後、フォトレジスト膜を現像処理する。

請求項（抜粋）：

一定の間隔で設けられた複数の線状又は楔状パターンを形成する微細パターン形成方法において、基板上にポジ型フォトレジスト膜を形成する工程と、前記線状又は楔状パターンに対応する遮光部が設けられた露光マスクを介して前記フォトレジスト膜を露光する第1の露光工程と、前記フォトレジスト膜のうち前記線状又は楔状パターンの先端部に対応する部分を露光する第2の露光工程と、前記フォトレジスト膜を現像処理する工程とを有することを特徴とする微細パターン形成方法。

IPC (7件)：

G03F 7/22 ,  G02F 1/1335 500 ,  G02F 1/1368 ,  G09F 9/00 342 ,  G09F 9/30 338 ,  G09F 9/35 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

G03F 7/22 Z ,  G02F 1/1335 500 ,  G02F 1/1368 ,  G09F 9/00 342 Z ,  G09F 9/30 338 ,  G09F 9/35 ,  H01L 21/30 502 C

Fターム (45件)：

2H091FA02Y ,  2H091FA08X ,  2H091FA08Z ,  2H091FA34Y ,  2H091GA02 ,  2H091GA06 ,  2H091GA13 ,  2H091HA07 ,  2H091LA18 ,  2H092GA14 ,  2H092JA24 ,  2H092JA34 ,  2H092JA37 ,  2H092JA41 ,  2H092JA46 ,  2H092JB22 ,  2H092JB31 ,  2H092KA21 ,  2H092MA14 ,  2H092MA15 ,  2H092MA18 ,  2H092NA29 ,  2H092PA02 ,  2H092PA08 ,  2H092PA09 ,  2H097AA12 ,  2H097FA10 ,  2H097GB01 ,  2H097LA12 ,  5C094AA05 ,  5C094AA43 ,  5C094BA03 ,  5C094BA43 ,  5C094CA19 ,  5C094EA04 ,  5C094EA07 ,  5C094ED15 ,  5C094GB10 ,  5F046AA13 ,  5F046AA25 ,  5G435AA17 ,  5G435BB12 ,  5G435CC09 ,  5G435KK05 ,  5G435KK09