特許
J-GLOBAL ID:200903034617885945
ヒドロキシガリウムフタロシアニンの製造方法及び積層型光導電性画像形成部材
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
中島 淳 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-274491
公開番号(公開出願番号):特開平8-259835
出願日: 1995年10月23日
公開日(公表日): 1996年10月08日
要約:
【要約】【課題】 簡便な、低硫黄含量のV型ヒドロキシガリウムフタロシアニンの製造方法及びそれを用いた積層型光導電性画像形成部材を提供する。【解決手段】 ヒドロキシガリウムフタロシアニンの製造方法であって、ヒドロキシガリウムフタロシアニンを強酸中に溶解し、次いで得られた溶解顔料を塩基性の水性媒体中に再沈殿させることによって、ガリウムフタロシアニン先駆物質顔料を加水分解する工程と、形成されたあらゆるイオン種を水で洗浄することにより取り除き、水とヒドロキシガリウムフタロシアニンを含む得られた水性スラリーを濃縮してウェットケークを得る工程と、有機溶媒を用いて共沸蒸留により水を該スラリーから取り除き、該得られた顔料スラリーを添加第2溶媒と混合させて、該ヒドロキシガリウムフタロシアニンを形成する工程と、を含む。
請求項(抜粋):
ヒドロキシガリウムフタロシアニンの製造方法であって、ヒドロキシガリウムフタロシアニンを強酸中に溶解し、次いで得られた溶解顔料を塩基性の水性媒体中に再沈殿させることによって、ガリウムフタロシアニン先駆物質顔料を加水分解する工程と、形成されたあらゆるイオン種を水で洗浄することにより取り除き、水とヒドロキシガリウムフタロシアニンを含む得られた水性スラリーを濃縮してウェットケークを得る工程と、有機溶媒を用いて共沸蒸留により水を該スラリーから取り除き、該得られた顔料スラリーを添加第2溶媒と混合させて、該ヒドロキシガリウムフタロシアニンを形成する工程と、を含むヒドロキシガリウムフタロシアニンの製造方法。
IPC (4件):
C09B 67/50
, C07D487/22
, C09B 67/16
, G03G 5/06 370
FI (4件):
C09B 67/50 Z
, C07D487/22
, C09B 67/16
, G03G 5/06 370
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