特許
J-GLOBAL ID：200903034622734696
リソグラフィ装置、ミラー要素、デバイス製造方法、およびビーム送達システム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 吉田 裕
, 岩本 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-419669
公開番号（公開出願番号）：特開2004-200696
出願日： 2003年12月17日
公開日（公表日）： 2004年07月15日
要約：
【課題】コストおよび改造を最小限に抑えながら、エネルギー出力を最大にするフォトリソグラフィ装置を提供すること。【解決手段】本発明によれば、放射線の投影ビームを提供するための放射線システムと、所望のパターンに従って投影ビームにパターンを形成するパターン形成手段を支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、パターンが形成されたビームを基板のターゲット部分の上に投影するための投影システムと、パターン形成手段を照明することができるように、放射線ビームを調整して調整済み放射線ビームを提供する照明システムと、投影ビームを放射線システムから照明システムまで、方向を変更して送達するための方向変更要素を備えたビーム送達システムとを有するリソグラフィ装置が提供される。放射線ビームは所定の偏光状態を有するように構成され、方向変更要素は放射線ビームの所定の偏光状態に対して放射線損失を最小にするように構成される。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
放射線の投影ビームを提供するための放射線システムと、
所望のパターンに従って投影ビームにパターンを形成するパターン形成手段を支持するための支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルと、
パターンが形成されたビームを基板のターゲット部分の上に投影するための投影システムとを有するリソグラフィ装置において、
前記放射線システムが、
前記パターン形成手段を照明することができるように、調整済み放射線の投影ビームを提供するように、前記放射線ビームを調整するための照明システムと、
前記ビームを放射線源から前記照明システムまで、方向を変えて送達するための複数の方向変更要素を備えたビーム送達システムとをさらに有しており、
前記放射線源が、所定の偏光状態を有するビームを提供するように構成され、前記方向変更要素が前記放射線ビームの前記所定の偏光状態に対して最小の放射線損失を提供するように構成されていることを特徴とするリソグラフィ装置。
IPC (3件)：
H01L21/027
, G02B5/08
, G03F7/20
H01L21/30 515D
, G02B5/08 Z
, G03F7/20 521
, H01L21/30 527
2H042DA08
, 2H042DB00
, 2H042DB02
, 2H042DE00
, 5F046BA03
, 5F046CA08
, 5F046CB02
, 5F046CB15
, 5F046CB23
, 5F046DA01
