特許

J-GLOBAL ID：200903034623908990

パルスレーザ光線を使用して眼科手術を行う装置

発明者： チボール ジュハスズ ,  ヨゼフ エフ.ビレ
出願人/特許権者： インテリジェント サージカル レーザーズ インコーポレーテッド
代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-238703
公開番号（公開出願番号）：特開平7-184951
出願日： 1994年10月03日
公開日（公表日）： 1995年07月25日
要約：

【要約】【目的】 パルスレーザ光線を使用して、眼の角膜内で基質内光破壊角膜摘除を行う装置を提供する。【構成】 本装置は基質内の出発点におけるスポットサイズに、光線を集束する第1段階を有している。出発点は基質内において、角膜上皮から後方の、所定の距離の所に位置している。処置は出発点から開始され、実質的にスポットサイズの容積と等しい基質組織の容積が、レーザ光線によって破壊される。この光破壊は、基質組織の光破壊に対するレーザ光線放射照度域値の100倍より小さな、放射照度を使用して行うことが重要である。続いてパターン化された順序に従って、基質内の他の別個の点におけるスポットサイズに光線を集束する。したがって各点における基質組織が光破壊される。このように光破壊の漸進的パターンによって各スポットは、実質的に前に光破壊された組織の容積に隣接して位置するようになる。光破壊された組織は、実質的に光軸の周りに中心対称的な層を形成し、該層内の総ての点は、実質的に上皮から同じ距離の所に位置するようになる。複数の層が生じるようになすことができる。

請求項（抜粋）：

パルスレーザ光線を使用して、眼の基質内光破壊角膜摘除を行う装置において、基質内の出発点におけるスポットに前記光線を集束し、該スポットの容積とほぼ等しい容積の基質組織を破壊する装置と、連続的に所定のパターンに従って、前記基質内の一点におけるスポットに前記光線を再集束し、前記再集束した容積とほぼ等しい容積の基質組織を破壊する装置で、前記再集束されるスポットが、実質的に前記破壊された基質組織の容積に近接するようになっている装置とを、有していることを特徴とする手術装置。