特許
J-GLOBAL ID：200903034624417035
光学材料分析に用いる表面ミクロ機械加工技術によって製造される電気同調可能型ファブリ・ペロ干渉計
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡部 正夫 (外9名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-026497
公開番号（公開出願番号）：特開平7-286809
出願日： 1995年02月15日
公開日（公表日）： 1995年10月31日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】技術の欠点を克服し、かつ表面ミクロ機械加工技術によって製造される全く新しいタイプの電気同調可能型ファブリ・ペロ干渉計を提供する。【構成】ファブリ・ペロ干渉計に基づくセンサ構造は、本体1と、前記本体ブロック1に密着された2枚の基本的に平行な反射鏡41、26で、この反射鏡のうち少なくとも1枚が41部分的に透過性を有しかつ本体ブロック1に対して可動式であり、前記反射鏡41、26同士が最大で複数の半波長(λ/2)分の間隔を設けて配置されており、かつ反射鏡構造体41、26の両方が前記反射鏡構造体41、26の間に静電力を発生させる内部電極構造体6、20を具備する反射鏡とから構成される。
請求項（抜粋）：
光学測定波長が波長λに集中するような光学掃引フィルタとして光学材料分析に用いる表面ミクロ機械加工技術によって製造される電気同調可能型ファブリ・ペロ干渉計において、- 本体ブロック(1)と、- 少なくとも反射鏡の1枚(41)が半透過性であり本体ブロック(1)に対して可動式となっている、前記本体ブロック(1)に密着される2枚の基本的に平行な反射鏡(41、26)において、前記反射鏡(41、26)が互いに最大で複数の半波長、すなわちλ/2の間隔を有する反射鏡と、- 反射鏡構造体(41、26)の両方に含まれ、かつ前記反射鏡構造体(41、26)の間に静電力を発生させることが可能な内部電極構造体(6、20)とから成り、- 光学領域の平坦性を最大限度に保持しやすくするために、可動式反射鏡構造体(41)が、反射鏡の光学領域(24)を取り囲む構造的に弱い領域(15)を有し、- 機械的レバー動作を実現し、かつ可動式反射鏡構造体(41)の電極(20)と固定式反射鏡構造体(26)の電極(6)の間で電流による接触が発生しないようにするために、電極構造体の少なくとも1つ(20)を用いて前記光学領域(24)を取り囲むことを特徴とするファブリ・ペロ干渉計型センサ構造。
IPC (3件)：
G01B 9/02
, G01N 21/27
, G02B 5/28
