半導体製造装置およびデバイス製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊東哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-330951
公開番号（公開出願番号）：特開平8-161014
出願日： 1994年12月09日
公開日（公表日）： 1996年06月21日
要約：

【要約】【目的】装置のオペレータが適切なメンテナンスおよびトラブルシューティングのオペレーションを正確かつ速やかに行なうことが出来るようにする。【構成】各種パラメータを設定したり種々のコマンドを入力したりするためのコンソールCPU331、入力手段および表示手段を有するコンソール330と、製造装置本体のシーケンスを制御するメインCPU321と、製造装置本体の各ユニットを制御する複数のサブCPU420とを通信手段411,421を介して接続し、前記コンソールに、前記入力手段および表示手段を見かけ上前記メインCPUおよび各サブCPUの専用ターミナル414,424として動作させるターミナルエミュレート手段401を設ける。

請求項（抜粋）：

各種露光パラメータを設定したり種々のコマンドを入力したりするためのコンソールCPU、入力手段および表示手段を有するコンソールと、製造装置本体のシーケンスを制御するメインCPUと、製造装置本体の各ユニットを制御する複数のサブCPUとを通信手段を介して接続してなる半導体製造装置において、前記コンソールに、前記入力手段および表示手段を見かけ上前記メインCPUおよび各サブCPUの専用ターミナルとして動作させるターミナルエミュレート手段を設けたことを特徴とする半導体製造装置。

IPC (3件)：

G05B 19/05 , G03F 7/20 521 , H01L 21/027

FI (3件)：

G05B 19/05 L , H01L 21/30 502 G , H01L 21/30 516 Z

引用特許：

審査官引用 (6件)

半導体露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-135182 出願人：キヤノン株式会社
特開平3-026450
特開平2-028806

全件表示

前のページに戻る