特許

J-GLOBAL ID：200903034632639128

エチレンの製造方法

発明者： 小林 哲彦 ,  春田 正毅 ,  中原 佳子 ,  安藤 尚功
出願人/特許権者： 工業技術院長 ,  財団法人地球環境産業技術研究機構
代理人 (2件)： 三枝 英二 (外1名) ,  三枝 英二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-190185
公開番号（公開出願番号）：特開平9-038490
出願日： 1995年07月26日
公開日（公表日）： 1997年02月10日
要約：

【要約】【課題】反応ガス中のエタン濃度を10%以上とし且つエタン転化率を1%以上としても、エチレンの選択率が60%を上回る新たなエチレンの製造技術を提供することを主な目的とする。【解決手段】(1)SnとWとを含む酸化物を触媒活性成分とすることを特徴とする、エタンの酸化によるエチレン製造用触媒。(2)SnとWとを含む酸化物触媒の存在下にエタンと酸素とを反応させることを特徴とするエチレンの製造方法。

請求項（抜粋）：

SnとWとを含む酸化物を触媒活性成分とすることを特徴とする、エタンの酸化によるエチレン製造用触媒。

IPC (5件)：

B01J 23/30 ,  B01J 29/076 ,  C07C 5/48 ,  C07C 11/04 ,  C07B 61/00 300

FI (5件)：

B01J 23/30 Z ,  B01J 29/076 Z ,  C07C 5/48 ,  C07C 11/04 ,  C07B 61/00 300

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平4-257528