特許
J-GLOBAL ID：200903034635992023

偏光板保護フィルム及びその製造方法並びに偏光板及び液晶表示装置

発明者：
矢島 孝敏

矢島 孝敏 について

, 
本田 誠

本田 誠 について

, 
渋江 俊明

渋江 俊明 について


出願人/特許権者：
コニカ株式会社

コニカ株式会社 について


代理人 (1件)： 坂口 信昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-320742
公開番号（公開出願番号）：特開2002-131536
出願日： 2000年10月20日
公開日（公表日）： 2002年05月09日
要約：
【要約】【課題】厚さ方向のレターデーションが大きく、従来より薄膜化が可能な偏光板用保護フィルムを明らかにし、それを用いた偏光板と視野角が非常に広いVA型液晶表示装置を明らかにする。【解決手段】セルロースエステルを有機溶媒に溶解させた溶液を、支持体上に流延し溶媒を蒸発させてフィルムを形成することにより得られるセルロースエステルを含む偏光板保護フィルムの製造方法であって、該セルロースエステルが下記(1)から(5)を満たすセルロースエステルであることを特徴とする偏光板保護フィルムの製造方法である。(1)アセチル基の置換度:1.75から2.15(2)プロピオニル基の置換度:0.60から0.80(3)アルカリ土類金属の含有量:1から50ppm(4)残留硫酸量(硫黄元素の含有量として):1から50ppm(5)遊離酸量:1から100ppm
請求項（抜粋）：
セルロースエステルを有機溶媒に溶解させた溶液を、支持体上に流延し溶媒を蒸発させてフィルムを形成することにより得られるセルロースエステルを含む偏光板保護フィルムの製造方法であって、該セルロースエステルが下記(1)から(5)を満たすセルロースエステルであることを特徴とする偏光板保護フィルムの製造方法。(1)アセチル基の置換度:1.75から2.15(2)プロピオニル基の置換度:0.60から0.80(3)アルカリ土類金属の含有量:1から50ppm(4)残留硫酸量(硫黄元素の含有量として):1から50ppm(5)遊離酸量:1から100ppm
IPC (7件)：
G02B 5/30 ,  B29C 41/28 ,  C08J 5/18 CEP ,  G02F 1/1335 510 ,  B29K 1:00 ,  B29L 11:00 ,  C08L 1:14
FI (7件)：
G02B 5/30 ,  B29C 41/28 ,  C08J 5/18 CEP ,  G02F 1/1335 510 ,  B29K 1:00 ,  B29L 11:00 ,  C08L 1:14
Fターム (34件)：
2H049BA02 ,  2H049BB33 ,  2H049BC01 ,  2H049BC09 ,  2H049BC22 ,  2H091FA08X ,  2H091FA08Z ,  2H091FC07 ,  2H091FD14 ,  2H091GA06 ,  2H091GA16 ,  2H091KA02 ,  2H091KA04 ,  4F071AA09 ,  4F071AF30 ,  4F071AF31 ,  4F071AH16 ,  4F071BA02 ,  4F071BB02 ,  4F071BC01 ,  4F071BC02 ,  4F205AA01D ,  4F205AC05 ,  4F205AG01 ,  4F205AH73 ,  4F205GA07 ,  4F205GB02 ,  4F205GC07 ,  4F205GE03 ,  4F205GE22 ,  4F205GF06 ,  4F205GF24 ,  4F205GN22 ,  4F205GN29
引用特許：
審査官引用 (6件)
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