特許
J-GLOBAL ID：200903034653153500
エリプソパラメータ測定方法及びエリプソメータ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-306622
公開番号（公開出願番号）：特開平7-159131
出願日： 1993年12月07日
公開日（公表日）： 1995年06月23日
要約：
【要約】【目的】 エリプソパラメータの測定時に、たとえ測定対象13が多少傾いたとしてもエリプソパラメータΔ,Ψの測定精度が低下しないようにする。【構成】 測定対象13に対して偏光した光を所定角度φで入射させ、この測定対象13の反射光18をビームスプリッタ19を含む光学系を用いてそれぞれ互いに異なる4つの偏光成分に分離し、この分離された4つの光強度I1 ,I2 ,I3 ,I4 からから、ビームスプリッタ19で反射光18を反射光20aと透過光20bとに分離する際の強度反射率/強度透過率比の変化率αと反射光18の光強度に関する値I0 及び2つのエリプソパラメータΔ,Ψを4つの変数とした4つの式からなる連立方程式を解くことにより、最終的に目標とする2つのエリプソパラメータΔ,Ψを求める。
請求項（抜粋）：
測定対象に対して偏光した光を所定角度で入射させ、この測定対象の反射光をビームスプリッタを含む光学系を用いてそれぞれ互いに異なる4つの偏光成分に分離し、この分離された4つの偏光成分の光強度から、前記ビームスプリッタで前記反射光を分離する際の強度反射率/強度透過率比の変化率と前記反射光の光強度に関する値と2つのエリプソパラメータΔ,Ψとを変数とみなして、最終的に前記2つのエリプソパラメータΔ,Ψを求めることを特徴とするエリプソパラメータ測定方法。
IPC (3件)：
G01B 11/06
, G01J 4/04
, G01N 21/21
