特許

J-GLOBAL ID：200903034657732440

露光マスクの形成方法および液晶装置の製造方法

発明者： 野田 洋一
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-067164
公開番号（公開出願番号）：特開2000-267253
出願日： 1999年03月12日
公開日（公表日）： 2000年09月29日
要約：

【要約】【課題】 ガラス製のマスクを用いた露光技術にあっては、ガラスの自重によりマスクがたわんでしまい、これによって、基板に転写されるパターンの距離が設計値からずれてしまうという問題点があった。【解決手段】 露光マスク上のパターンを、予め当該露光マスクの自重による伸び量を考慮して例えば基板中心のような基準点からの距離が、伸びがないと仮定した場合の距離よりも短くなるように形成するようにした。

請求項（抜粋）：

露光マスク上のパターンを、当該露光マスクの自重による伸び量を考慮して、基準点からの距離が、伸びがないと仮定した場合の距離よりも短くなるように形成することを特徴とする露光マスクの形成方法。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 1/08 A ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (14件)：

2H088FA16 ,  2H088FA18 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088HA12 ,  2H088HA14 ,  2H088MA06 ,  2H088MA20 ,  2H095BA01 ,  2H095BB02 ,  2H095BC05 ,  2H095BC26 ,  2H095BD31 ,  2H095BE03