特許

J-GLOBAL ID：200903034690162676

逆浸透膜エレメントの処理方法、および逆浸透膜モジュール

発明者： 安藤 雅明 ,  渡辺 輝隆 ,  廣瀬 雅彦 ,  蜂須賀 久雄 ,  マーク・ウイルフ ,  クレイグ・バーテルス ,  キース・アンデス
出願人/特許権者： 日東電工株式会社 ,  ハイドロノーティクス
代理人 (1件)： 特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-287573
公開番号（公開出願番号）：特開2003-088730
出願日： 2001年09月20日
公開日（公表日）： 2003年03月25日
要約：

【要約】【課題】 逆浸透膜透過水中の溶質濃度低減効果を長時間持続させることができ、非電解質有機物や中性領域では解離しないホウ素等も高い阻止率で分離できる逆浸透膜の処理方法、および逆浸透膜モジュールを提供する。【解決手段】 ポリアミドスキン層を有する逆浸透膜エレメントを搭載した膜分離装置において、逆浸透膜エレメントを膜分離装置内の圧力容器に充填した後、前記逆浸透膜エレメントに臭素を含む遊離塩素水溶液を接触させる。

請求項（抜粋）：

ポリアミドスキン層を有する逆浸透膜エレメントを搭載した膜分離装置において、逆浸透膜エレメントを膜分離装置内の圧力容器に充填した後、前記逆浸透膜エレメントに臭素を含む遊離塩素水溶液を接触させることを特徴とする逆浸透膜エレメントの処理方法。

IPC (3件)：

B01D 61/08 ,  B01D 65/00 ,  B01D 71/56

FI (3件)：

B01D 61/08 ,  B01D 65/00 ,  B01D 71/56

Fターム (10件)：

4D006GA03 ,  4D006MB06 ,  4D006MC54X ,  4D006MC71X ,  4D006NA54 ,  4D006NA64 ,  4D006PB03 ,  4D006PB08 ,  4D006PC02 ,  4D006PC21