特許
J-GLOBAL ID：200903034691089999
基板搬送システムおよびこれを用いたレジスト塗布/現像装置ならびにその使用方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-103552
公開番号（公開出願番号）：特開平7-312335
出願日： 1994年05月18日
公開日（公表日）： 1995年11月28日
要約：
【要約】【構成】 ウェハ搬送システム10は、ウェハ1を収納するウェハ収納容器2と、ウェハ1に所定の処理を施す処理室3と、ウェハ収納容器2を搬送する容器搬送手段とを備え、ウェハ収納容器2には、非押圧状態で閉鎖、押圧状態で開放されるシャッタ5が設けられ、処理室3には、搬送アーム9が設けられる。この搬送アーム9は、ウェハ1の搬出入のために処理室3内から突出させる動作と同時に、シャッタ5の押圧を行うため、シャッタ開放部材としても働く。【効果】 このウェハ搬送システムを適用すると、クリーンルームの雰囲気から遮断された状態でウェハの搬出入が行えるので、超クリーンルームの面積を削減でき、コストを低減できる。また、レジスト塗布/現像装置にこのシステムを適用すると、ウェハがアルカリ性ガスからも遮断された状態で処理されるので、化学増幅系レジスト材料を用いたパターン形成が安定性よく行える。
請求項（抜粋）：
基板を収納する基板収納容器と、前記基板に対して所定の処理を行う処理室と、前記処理室に対して基板の搬出入を行うために前記基板収納容器を搬送する容器搬送手段とを備え、前記基板収納容器は、その基板収納取出口に非押圧状態にて閉鎖、押圧状態にて開放されるシャッタを備え、前記処理室は、その基板搬出入口にて前記シャッタを押圧してこれを開放することが可能なシャッタ開放部材を備えてなることを特徴とする基板搬送システム。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, B65G 49/00
, H01L 21/68
H01L 21/30 569 D
, H01L 21/30 564 Z
