特許

J-GLOBAL ID：200903034695563601

感光性組成物及びレリーフパターンの製造法

発明者： ▲廣▼ 昌彦 ,  小島 康則 ,  鍛治 誠 ,  宮坂 昌宏 ,  佐々木 範 ,  瀬谷 孝博
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-229531
公開番号（公開出願番号）：特開平11-065114
出願日： 1997年08月26日
公開日（公表日）： 1999年03月05日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 優れた感光特性を損なうことなく優れた保存安定性を示し、高解像度かつ寸法精度が良好でプロセス安定性の良好な感光性組成物並びに優れた耐熱性、密着性及び耐薬品性を示すレリーフパターンの製造法を提供する。【解決手段】 (A)ベンゾキノン化合物、フェノール化合物などの化合物から選択される化合物、(B)450nmから600nmに吸収を持つ色素化合物、(C)一般式(I)(式中、R1〜R10は、水素原子、アルコキシ基などである)で示されるチタノセン化合物、(D)シアノ基などを有するN-アリール-α-アミノ酸、並びに、(E)付加重合性基を有する化合物又は重合体を含有してなる感光性組成物並びにこの感光性組成物の塗膜上にパターンを描いたマスク上から活性光線を照射し、未照射部を現像除去することを特徴とするレリーフパターンの製造法。

請求項（抜粋）：

(A)それぞれの化合物において環に結合する水素原子が置換基により置換されていてもよい、ベンゾキノン化合物、フェノール化合物、カテコール化合物、レゾルシノール化合物及びハイドロキノン化合物、並びに、有機スルフィド化合物から選択される化合物、(B)450nmから600nmに吸収を持つ色素化合物、(C)一般式(I)【化1】(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及びR10は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20のアルコキシ基又は複素環である)で示されるチタノセン化合物、(D)シアノ基、ニトロ基又はアルキルスルホン基を有するN-アリール-α-アミノ酸、並びに、(E)付加重合性基を有する化合物又は付加重合性基を有する重合体を含有してなる感光性組成物。

IPC (13件)：

G03F 7/029 ,  C08F 2/50 ,  C08F220/10 ,  C08F299/00 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 502 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/008 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/027 514 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/038 504 ,  H01L 21/027

FI (13件)：

G03F 7/029 ,  C08F 2/50 ,  C08F220/10 ,  C08F299/00 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 502 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/008 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/027 514 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/038 504 ,  H01L 21/30 502 R