特許

J-GLOBAL ID：200903034735222535

遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 佐藤 健一郎
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-037872
公開番号（公開出願番号）：特開平10-274851
出願日： 1997年02月21日
公開日（公表日）： 1998年10月13日
要約：

【要約】【課題】 遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物において、脂肪族環状部位(脂環有機基)により改善されたドライエッチング耐性を大きく劣化させることなく、未露光部の基板への密着性を改善することにある。【解決手段】 活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する化合物、及び特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を有する樹脂を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する化合物、及び下記一般式〔I〕で表される繰り返し構造単位を含有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を有する樹脂を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。【化1】R1 ;水素原子、アルキル基A;アルキレン基、置換アルキレン基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、エステル基、アミド基、ウレタン基、ウレア基の単独の基あるいは2つ以上を組み合わせた基を表す。

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R