特許
J-GLOBAL ID:200903034747026766

コンデンサ及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 頓宮 孝一 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-086423
公開番号(公開出願番号):特開平6-029465
出願日: 1993年04月13日
公開日(公表日): 1994年02月04日
要約:
【要約】【目的】 セルを大きくすることなくキャパシタンスを大幅に高めるように表面が粗いコンデンサ構造を提供する。【構成】 コンデンサは、基板表面に形成され粗面化表面を有する格子ミスマッチ結晶物質層18を含む第1コンデンサ・プレート17、18、20を有する。第1コンデンサ・プレート上には、絶縁物質層22が形成される。絶縁物質層22上には、導電物質層24を含む第2コンデンサ・プレートが形成される。
請求項(抜粋):
第1物質の基板と、上記基板の表面に形成され、上記第1物質に対して格子ミスマッチであり、ゲルマニウム、ガリウムひ素、及び金属シリサイドから成るグループから選択された粗面化結晶物質層を含む第1コンデンサ・プレートと、上記第1コンデンサ・プレート上に形成された絶縁物質層と、上記絶縁物質層上に形成された第1導電物質層を含む第2コンデンサ・プレートとを含むコンデンサ。
IPC (2件):
H01L 27/04 ,  H01L 27/108
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 特開平3-266460
  • 特開平4-051564
  • 特開平4-100217
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