特許

J-GLOBAL ID：200903034749246526

露光装置およびマイクロデバイスの製造方法

発明者： 長山 匡
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 山口 孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-306005
公開番号（公開出願番号）：特開2002-118046
出願日： 2000年10月05日
公開日（公表日）： 2002年04月19日
要約：

【要約】【課題】 温度変動などに起因する基準マーク板の変形を良好に抑えて、高精度な同時ベースライン計測を行うことのできる露光装置。【解決手段】 マスク(M)のパターン像を感光性基板(W)上に形成するための投影光学系(PL)と、感光性基板を保持して移動するための基板ステージ(WST)とを備えた露光装置。基板ステージに取り付けられて、第1基準マーク(FM1)および第2基準マーク(FM2)を有する基準板(FMP)と、第1基準マークを検出するための第1検出系(11)と、投影光学系を介して第2基準マークを検出するための第2検出系(12a,12b)とを備えている。基準板は、0.1ppm/°C以下の線膨張係数を有する材料で形成されている。

請求項（抜粋）：

マスクのパターン像を感光性基板上に形成するための投影光学系と、前記感光性基板を保持して移動するための基板ステージとを備えた露光装置において、前記基板ステージに取り付けられて、第1基準マークおよび第2基準マークを有する基準板と、前記第1基準マークを検出するための第1検出系と、前記投影光学系を介して前記第2基準マークを検出するための第2検出系とを備え、前記基準板は、0.1ppm/°C以下の線膨張係数を有する材料で形成されていることを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (3件)：

G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 523

Fターム (4件)：

5F046CC01 ,  5F046EB03 ,  5F046EC02 ,  5F046FA18