特許
J-GLOBAL ID：200903034755249880
プラズマ装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
河野 登夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-357466
公開番号（公開出願番号）：特開平6-196420
出願日： 1992年12月23日
公開日（公表日）： 1994年07月15日
要約：
【要約】【目的】 試料室よりプラズマ生成室のガス圧力を低下し得るようにすることによって、試料の処理速度を低下させることなく、活性が高いプラズマを生成するプラズマ装置を提供すること。【構成】 マイクロ波導入窓1a及びプラズマ引出窓1bを備えるプラズマ生成室1には、マイクロ波導入窓1aに導波管2の一端が、また導波管2の外側にガス供給管1cが、更にその側壁に排気装置5に連なる排気管5aが接続されており、プラズマ生成室1の排気管5aの接続部から導波管2の一端部にわたって、及び前記排気管5aの接続部より下方のプラズマ生成室1の周囲には、これらを取り囲むようにこれらと同心状に励磁コイル14,15 がそれぞれ配設されている。プラズマ生成室1に連接する試料室3内に配設された載置台9上には試料Sが載置されており、試料室3の側壁にはガス供給管3aが接続されている。そして前記排気装置5にて排気管5aを通じてプラズマ生成室1内を、更に試料室3内を排気しつつガス供給管1c及び3aより反応ガスを供給し、ECR励起にてプラズマを生成し、試料Sを処理する。
請求項（抜粋）：
プラズマ生成室及びこれに連接した試料室を減圧しつつ両室にガスを供給し、電子サイクロトロン共鳴を利用して前記プラズマ生成室にて生成したプラズマを前記試料室内の試料周辺に導いて、これを処理するプラズマ装置において、前記プラズマ生成室から前記ガスを排気すべくなしてあることを特徴とするプラズマ装置。
IPC (2件)：
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