特許
J-GLOBAL ID：200903034757646495
パターンの寸法測定方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-346868
公開番号（公開出願番号）：特開平11-183138
出願日： 1997年12月16日
公開日（公表日）： 1999年07月09日
要約：
【要約】【課題】 パターンの寸法測定方法および装置において、ビーム形状を変えずにアライメントがずれたときでもパターンの所定位置とビームの中心とを正確に一致させてスキャンを行うこと。【解決手段】 ビームBの走査が完了するたびに次の走査を開始する点を走査方向と直交する方向にシフトさせることでパターンPを異なる位置で走査することにより、走査方向およびその直交方向におけるパターン信号が二次元的分布として検出される。そして、これらの複数回の走査により検出された複数のパターン信号の信号強度から所定の信号強度の走査位置を算出して、該走査位置に対応するパターン信号に基づきパターンPの幅Wまたは位置Cを測定するので、アライメントのずれ等が生じてもビーム形状を変える必要が無いとともに、パターン信号の信号強度が小さくても正確に寸法測定が可能となる。
請求項（抜粋）：
パターンが形成された試料面上にスポット状のビームを照射し、前記ビームを前記パターンに対して相対的に走査し、該走査で生じた前記パターンからの散乱光と反射光との少なくとも一方のパターン信号を検出し、前記パターン信号から走査方向におけるパターンの幅または位置を測定する寸法測定方法において、前記走査が完了するたびに次の走査を開始する点を前記走査方向と直交する方向にシフトさせることで前記パターンを異なる位置で走査し、これらの複数回の走査により検出された複数のパターン信号の信号強度から所定の信号強度の走査位置を算出し、該走査位置に対応するパターン信号に基づき前記パターンの幅または位置を測定することを特徴とする寸法測定方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01B 11/24 F
, H01L 21/30 525 H
