特許
J-GLOBAL ID：200903034780929704
真空チャンバの圧力制御装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 祥二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-204648
公開番号（公開出願番号）：特開平7-045492
出願日： 1993年07月27日
公開日（公表日）： 1995年02月14日
要約：
【要約】【目的】半導体製造装置の反応室等の真空チャンバの圧力制御の制御範囲を拡大する。【構成】真空チャンバ1と、該真空チャンバに接続された太さの異なる複数の排気管12,13,14と、それぞれの排気管に設けられた開閉バルブ15,16,17と、前記複数の排気管が接続された圧力制御バルブ7と、圧力制御バルブの開度を検出する開度検出器19と、該開度検出器からの信号に応じて前記複数の開閉バルブを開閉するバルブ制御器18とを具備し、開閉バルブを適宜選択して、或は組合わせて開閉することで、排気系のコンダクタンスを変更し、圧力制御バルブによる圧力制御範囲を拡大する。
請求項（抜粋）：
真空チャンバと、該真空チャンバに接続された太さの異なる複数の排気管と、それぞれの排気管に設けられた開閉バルブと、前記複数の排気管が接続された圧力制御バルブと、圧力制御バルブの開度を検出する開度検出器と、該開度検出器からの信号に応じて前記複数の開閉バルブを開閉するバルブ制御器とを具備したことを特徴とする真空チャンバの圧力制御装置。
IPC (2件)：
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