特許
J-GLOBAL ID：200903034782794903
光導波膜及び光導波路の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-163006
公開番号（公開出願番号）：特開平6-002105
出願日： 1992年06月22日
公開日（公表日）： 1994年01月11日
要約：
【要約】【目的】 本発明の目的は、高屈折率の光導波路用コア膜を、低屈折率層を有する基板上に反りを小さく成膜でき、かつその膜厚及び屈折率の制御が容易で、不純物含有の虞のない透過率の良い膜を成膜する新規な光導波膜及び光導波路の製造方法を提供するものである。【構成】 本発明は真空チャンバー内上方部に基板を配置してこれを加熱すると共に、該基板の下方部にSi3 N4 のタブレットを収容した蒸発源を配置した後、上記真空チャンバー内にO2 ガスを導入しつつ、上記タブレットに電子ビームを照射してこれを蒸発させて上記基板上にSix Oy Nz の光導波膜を形成することを特徴としている。
請求項（抜粋）：
真空チャンバー内上方部に基板を配置してこれを加熱すると共に、該基板の下方部にSi3 N4 のタブレットを収容した蒸発源を配置した後、上記真空チャンバー内にO2 ガスを導入しつつ、上記タブレットに電子ビームを照射してこれを蒸発させて上記基板上にSix Oy Nz の光導波膜を形成することを特徴とする光導波膜の製造方法。
IPC (2件)：
前のページに戻る
