周辺露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-005864
公開番号（公開出願番号）：特開平5-190448
出願日： 1992年01月16日
公開日（公表日）： 1993年07月30日
要約：

【要約】【目的】角形基板上の周辺部だけではなく、本来のマスクパターン露光領域以外の任意の領域についても周辺露光することが可能であり、しかも、スループットの低下が少ない角型基板用の周辺露光装置を提供する。【構成】本来のマスクパターンの露光を行なう露光装置のステージに向けて角型基板の搬送を行なう搬送手段(10、12、14、16、18)と、その搬送手段による角型基板の搬送路の途中に、角型基板へ任意の形状のパターンを露光できる周辺露光光学系(24、30〜33、40〜43)とを設けた。

請求項（抜粋）：

露光装置により角形基板上に形成される所定のマスクパターンの露光領域外を露光する周辺露光装置において、該周辺露光装置は、基板保管部から前記露光装置の露光用ステージに向けて前記角形基板を1次元的に搬送する1次元搬送機構を含む搬送手段と、該搬送手段により前記角形基板が1次元的に搬送される搬送路中に、前記角形基板へ周辺露光パターンを露光する周辺露光光学系とを有し、該周辺露光光学系は、スリット状の光束断面を有するほぼ平行光束を供給する光束供給手段と、該光束供給手段からの光束によって前記角形基板上に形状変更可能な周辺露光パターンを形成するパターン形成手段と、該パターン形成手段により形成される前記周辺露光パターンの形状を制御する制御手段とを有することを特徴とする周辺露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 361 W , H01L 21/30 301 J

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