特許

J-GLOBAL ID：200903034794021950

光導波路型回折格子素子製造方法および装置

発明者： 柴田 俊和 ,  菅沼 寛 ,  井上 享 ,  村嶋 清孝
出願人/特許権者： 住友電気工業株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-212663
公開番号（公開出願番号）：特開2003-029061
出願日： 2001年07月12日
公開日（公表日）： 2003年01月29日
要約：

【要約】【課題】 屈折率変調の振幅分布が一定でない場合にも容易に光導波路型回折格子素子を製造することができる光導波路型回折格子素子製造方法などを提供する。【解決手段】 光源321から出力された屈折率変化誘起光UVは、シャッタ322および光学系323を経た後、ミラー324により反射されて、位相格子マスク200を介して光ファイバ110へ照射される。位相格子マスク200の回折作用により+1次回折光と-1次回折光とが発生し、これら2つの回折光が干渉することにより縞間隔Λの干渉縞が生じる。ミラー324がz軸方向に移動することにより、位相格子マスク200を介した光ファイバ110への屈折率変化誘起光UVの照射位置が走査される。このミラー324の移動および屈折率変化誘起光UVの照射の際に、圧電素子330の作用により、位相格子マスク200はz軸方向に振動する。

請求項（抜粋）：

光導波路の長手方向に沿った所定範囲に亘って屈折率変調による回折格子が形成された光導波路型回折格子素子を製造する方法であって、前記光導波路の側方に配置された位相格子マスクを前記長手方向に前記光導波路に対して相対的に振動させ、その振動している前記位相格子マスクを介して前記光導波路に屈折率変化誘起光を照射することにより、前記光導波路に回折格子を形成して、前記光導波路型回折格子素子を製造する、ことを特徴とする光導波路型回折格子素子製造方法。

IPC (2件)：

G02B 6/10 ,  G02B 5/18

FI (2件)：

G02B 6/10 C ,  G02B 5/18

Fターム (9件)：

2H049AA06 ,  2H049AA34 ,  2H049AA45 ,  2H049AA59 ,  2H049AA62 ,  2H050AA07 ,  2H050AB05X ,  2H050AC84 ,  2H050AD00

引用特許：

審査官引用 (1件)

• ブラッググレーティング形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-232246   出願人：昭和電線電纜株式会社