特許
J-GLOBAL ID:200903034798483134

ポリチオフェンの製造法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (8件): 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  杉本 博司 ,  星 公弘 ,  二宮 浩康 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト ,  ラインハルト・アインゼル
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-550685
公開番号(公開出願番号):特表2009-523869
出願日: 2007年01月18日
公開日(公表日): 2009年06月25日
要約:
本発明は、ポリチオフェン、特に導電性ポリチオフェンの新規の製造方法並びにチオフェンの酸化重合の際の酸化剤としての超原子価ヨウ素化合物の使用に関する。
請求項(抜粋):
酸化剤として少なくとも1種の超原子価ヨウ素化合物を使用することを特徴とする、チオフェン又はチオフェン誘導体の酸化重合によるポリチオフェンの製造方法。
IPC (1件):
C08G 61/12
FI (1件):
C08G61/12
Fターム (4件):
4J032BA03 ,  4J032BB01 ,  4J032BB04 ,  4J032BC02

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