特許

J-GLOBAL ID：200903034801884641

フォトマスク及び露光方法

発明者： 杉原 孝志 ,  福島 隆史 ,  高木 悛公
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-077121
公開番号（公開出願番号）：特開平6-289590
出願日： 1993年04月02日
公開日（公表日）： 1994年10月18日
要約：

【要約】【目的】 露光装置の限界を超えた解像度と焦点深度を得ることのできるフォトマスクとその露光方法を提供する。【構成】 従来からのマスクの露光パターンに応じた遮光部(Cr)を有する面の全面に透明層を形成し、さらにその上層に半透明膜を配置する事により、パターンの開口部から入射した露光光が、半透明膜と遮光膜間でこの透明層内を多重反射し、かつ、透明層の膜厚を多重反射光が1往復で位相変化が180°となるように作製する。

請求項（抜粋）：

透明基板上に、単一または複数の開口部を有する遮光膜と、遮光膜上を含む全面に形成された透明膜と、少なくともこの透明膜の上面に形成された半透明膜とからなり、透明膜が、透明基板から遮光膜の開口部を通って透明膜を通過した後、半透明膜で反射し透明膜内を1往復した光と半透明膜で反射しない光との位相差を180°にしうる膜厚を有するフォトマスク。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 311 W