特許
J-GLOBAL ID：200903034813629507
光記録媒体の製造用原盤およびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡辺 徳廣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-197215
公開番号（公開出願番号）：特開2001-023251
出願日： 1999年07月12日
公開日（公表日）： 2001年01月26日
要約：
【要約】【課題】 プリフォーマットの粗面形状を容易に変更でき、かつ粗面形状の均一性が高い光記録媒体製造用原盤の製造方法を提供する。【解決手段】 光散乱性の粗面状のプリフォーマット部を有する光記録媒体を製造する原盤の製造方法であって、原盤用基板1にレジスト層2を形成し、該レジスト層2上に透明な粗面形成層10を形成した後、プリフォーマットパターンマスク4を用いて露光し、現像によって粗面形成層10を除去して該レジスト層2の表面に粗面部7を形成することを特徴とする光記録媒体の製造用原盤の製造方法。
請求項（抜粋）：
原盤用基板上のレジスト層表面に、微粒子を含有する水溶性樹脂からなる粗面形成層の粗面を転写して形成された粗面状のプリフォーマットパターンを有することを特徴とする光記録媒体の製造用原盤。
Fターム (10件)：
5D121BA01
, 5D121BA03
, 5D121BB21
, 5D121BB25
, 5D121BB28
, 5D121BB31
, 5D121BB34
, 5D121BB38
, 5D121GG02
, 5D121GG03
