特許
J-GLOBAL ID:200903034817831173

スラスト軸受け

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 永井 隆
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-211421
公開番号(公開出願番号):特開2004-052909
出願日: 2002年07月19日
公開日(公表日): 2004年02月19日
要約:
【課題】高回転機器のスラスト軸受けにおいて、摺動時の低摩耗性と耐久性を実現することを目的とする。【解決手段】スラスト軸受けにおいて、回転軸等に接触する表面部分の平面平滑性が、中心線平均粗さ(Ra)において2〜1000μmであるポリアセタール樹脂で形成されることを特徴とするスラスト軸受け。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
回転軸に接触する表面の平面平滑性が、中心線平均粗さ(Ra)において5〜1000μmであるポリアセタール樹脂で形成されることを特徴とするスラスト軸受け。
IPC (2件):
F16C33/20 ,  F16C17/04
FI (2件):
F16C33/20 Z ,  F16C17/04 Z
Fターム (10件):
3J011AA07 ,  3J011AA20 ,  3J011BA08 ,  3J011CA06 ,  3J011DA01 ,  3J011JA02 ,  3J011KA03 ,  3J011MA02 ,  3J011RA03 ,  3J011SC13

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